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蝕刻裝置

更新時間:2020-07-03 13:52:08點擊次數:442次字號:T|T
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相關介紹

產品概要

ARRAY工序:金屬(Al/Mo/Cu/Cr等)的濕蝕刻氧化硅膜(SiO2)?硅氮化物膜(SiN)的濕蝕刻.

ARRAY/CF/觸摸屏工序:透明電極(ITO)的濕蝕刻


  產品特征

可對應玻璃基板最大尺寸:G10 寬2850mm×長3050mm

可對應各種蝕刻液

考慮到安全性,漏液,漏氣等問題

考慮到蝕刻均一性的工藝設計

防止2次污染的搬送構造以及風刀

可對應高處理量的系統設計

可通過抑制藥液,純水,氣的使用量減少運行成本


產品外觀,構成


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