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半導體清洗設備

更新時間:2020-07-26 12:05:50點擊次數:680次字號:T|T
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Wafer Case 清洗設備
產品概要
主要清洗wafer存儲料盒及料箱的清洗裝置
產品特征
獨特的治具,可靈活對應6“~12"產品
任何可用的FOUP FOSB RSP卡匣、料盒都可以放入治具中
清洗干燥共用的小型化的獨立腔室
在線成本降低
每人多臺設備同時操作對應每人多臺設備同時操作對應可

實用新型專利保護



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