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光干擾式膜厚測量裝置 TOHOSpec3100

更新時間:2020-07-03 13:55:58點擊次數:637次字號:T|T
光干擾式膜厚測量裝置 TOHOSpec3100  產品概要                                                              &nbs
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光干擾式膜厚測量裝置 TOHOSpec3100

 產品概要                                                                                                                   

TohoSpec3100是,Nanometrics公司技術轉讓于我司的光干擾式膜厚測量裝置。

這臺設備采用線性陣列(Linear array)受光素子,測量精度在2?以下,擁有較高的業績。

已高信頼度,高精度,高速度為理念,可用于多層膜同時測量或光學定數(n,k)測量。


  產品特征                                                                                                                   

具備可在大學或企業研究所等最先進的R&D領域中使用的特征。

使用光譜(Spectrum)分析軟件,可進行多層膜(一般最多3層)的同時測量,光學定數(n,k)的測量。

可根據各種膜的特性,設定符合其特性的參數,進而實現更多的各種膜構造的膜厚測量。

可簡單實現適合工序的用于測量特殊膜的程序設定

可對應美國Microsoft公司的Windows®7


測量界面


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