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FPD用自動膜厚測量裝置 NanoSpec6500

更新時間:2020-07-03 14:12:15點擊次數:626次字號:T|T
FPD用自動膜厚測量裝置 NanoSpec6500 ? 產品概要? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? &
相關介紹

FPD用自動膜厚測量裝置 NanoSpec6500

  產品概要

在FPD(Flat Panel Display)生產線中,用于測量玻璃基板薄膜的NanoSpec6500系列是,Nanometrics公司歷經多年的研發,凝結了光學技術及經驗,分析軟件,高精度Stage驅動等技術,在全球的主要液晶生產工程有著超過100臺的銷售業績。而我司在接受NanoSpec6500系列的業務轉讓后,并且以我司獨有的技術進一步改進設備后,進行設備的制造,銷售以及售后業務。


  產品特征

在擁有高處理能力,高精度,高信頼性的6500系列,追加了搭載光譜橢偏儀(SE)及紫外線(UV)的機型,可對應更廣范圍的膜厚測量及膜質評估。目前可對應基板尺寸是到G10用基板(2900mm×3100mm)為止的各種基板膜厚測量原理(NanoSpec的膜厚測量是,應用了光的干擾色測量方式的原理。在測量物上垂直照射白光或紫外線,將在膜的上下界面反射的光的干擾光引到光譜Head后,以分析光譜的光的強度計算出膜厚值。另外,光譜橢偏儀可以以廣范圍波長的入射光和反射光的偏振光變化量,同時計算出多個光學乘數(曲折率n和消衰系數k)和膜厚。)Small Spot測量(為可以測量Pattern化的區域,建議以最小0.75μm的Spot進行測量。0.75μm的Spot還可以對TFT構造的n+/a-Si/SiN/Glass等多層膜進行3層膜的同時膜厚測量(包含n,k值)。)

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對應各式基板的膜厚測量?檢查

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 玻璃上/金屬上  SiOx,SiNx,a-Si,n-a-Si,ITO,PI,Resist
 單層膜


 玻璃上  Ta2O5,Al上Al2O3

 玻璃上/金屬上  SiOx/Poly-Si/SiOx/SiNx,/Poly-Si/SiOx/SiNx
 多層膜
 a-Si/SiOx/SiNx/SiOx

 玻璃上  Resist/ITO,ITO/SiO2,PI/SiO2,SiOx/SiNx,  TaO2O5/SiNx



規格

型號 Nanospec6500系列 >6500X-SE(搭載  橢偏儀)
基板尺寸 300mm-3200mm
測量方式及分光  Head 光干擾式反射率測量,Linear array元  素
測量波長范圍  (nm) 400nm-800nm (SR)400nm-  800nm
(SE)380nm-  1000nm
膜厚測量范圍 10nm-20um (SR)10nm-  20um
(SE)0nm-10um
多層膜測量 可測量3層膜
膜質評估(n&k) 可測量
測量時間 0.5~sec/point(根據膜種類)
測量Spot尺寸 5X鏡頭:50um
10X鏡頭:25um
50X鏡頭:5um
100X鏡頭:0.75um
(SE是0.6mm×1.5mm

可選項 CIM,Loader   Interface,Pattern識  別, Small Spot,抗阻率測量,接觸角測量等
Utility 電源   單相AC200V 50/60Hz 10A
真空 -55~-80KPa
壓縮空氣 0.55~0.60MPa



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